MgO薄膜層被電抗性的射頻管?chē)婂兒蟮谋砻娣烹娞匦?
Chung-Hoo Park a,*,Woo-Geun Lee a, Dong-Hyun Kim a, Hong-Ju Ha b, Ju-Youn Ryu b

a 電機(jī)工程部，工程學(xué)院，釜山國(guó)立大學(xué)，韓國(guó)釜山
b Kumi 展示2個(gè)設(shè)備，LG 電子學(xué)公司，Kyungsang, buk-做，韓國(guó)

接收于1998年4月24日；承認(rèn)于1998年7月31日
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摘要
這篇論文描述了 MgO 薄膜層用電抗性無(wú)線(xiàn)電頻率平面磁電管在交流等離子體顯示板的介電層噴鍍后，表面輝光放電的影響。借由介紹在介電體上的一種 MgO 涂料，放電電壓急劇地減少，雖然厚度只有幾十埃。最低的放電電壓是這樣獲得的：樣品是由含有30%的氧氣于氧氣和氬氣的混合氣體和在壓力約為5毫托的噴鍍氣體制成。而且，高透明度（達(dá)到95%）也是在相同的實(shí)驗(yàn)情況下獲得。樣品比用電子束方法制成的顯示出更好的抵抗噴鍍性能，且在焊后沉積物的退火中沒(méi)有發(fā)現(xiàn)裂縫。©1998 Elsevier Science S.A.版權(quán)所有

關(guān)鍵字：MgO 薄膜層；表面放電，電抗性磁電管?chē)婂?；等離子體顯示板
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1 緒論
在最近幾年，已做出重要的進(jìn)展在可利用的商業(yè)，真彩，交流電(AC)等離子體顯示板(PDPs)方面。布滿(mǎn)介電層的 AC PDP 的電極，像 SiO2，然后是 MgO 薄膜層，都被沉積在介電層上。眾所周知，AC PDP 的性能會(huì)被 MgO 薄膜層[1–3]的表面輝光放電特性所嚴(yán)重影響。 MgO 薄膜層在 AC PDP 里扮演保護(hù)介電層免于輝光放電的等離子體的離子轟擊的噴鍍。另外 MgO 薄膜層也在降低放電起初電壓[4-6]方面擔(dān)任重要角色，而且產(chǎn)出廉價(jià)的 PDPs，因?yàn)楦唠妷?PDP 造價(jià)非常貴。
MgO 薄膜層現(xiàn)在是被電子束蒸發(fā)方法[7,8]制成。然而，MgO 薄膜層的一些問(wèn)題已經(jīng)被報(bào)導(dǎo)；舉例來(lái)說(shuō)，裂縫和高的腐蝕率是由于輝光放電[9]的離子轟擊放電的結(jié)果。為了要改善 MgO 薄膜層的性能, 新的制作方法，像是物理的蒸汽沉淀/化學(xué)的蒸汽沉淀處理，或者厚膜層-絲網(wǎng)印刷方法已經(jīng)被提議[10-13]。在工作中，MgO 薄膜層在用射頻電抗性平面磁電管?chē)婂兎椒ǖ慕殡娦詫由媳恢瞥? 和它的表面放電特性已經(jīng)在研究。尤其是, 為了要改善沉淀率, RF射頻電抗
性噴鍍方法已被采用。 在研究中，我們主要把重心集中在 MgO 薄膜層準(zhǔn)備情況和表面的放電特性之間的關(guān)系上。