新型環(huán)狀無機(jī)印跡TiO2/C/Fe3O4復(fù)合光催化劑的設(shè)計(jì)及其光催化過程機(jī)理研究
Research of photocatalytic process mechanism and design of novel annular inorganic imprinting TiO2/C/Fe3O4


1.2萬字 29頁 原創(chuàng)作品，已通過查重系統(tǒng)


目錄
摘要 III
關(guān)鍵詞 III
第一章 綜述部分 1
1 引言 1
2 傳統(tǒng)印跡技術(shù) 1
2.1 傳統(tǒng)印跡技術(shù)的概念 1
2.2 傳統(tǒng)印跡技術(shù)的原理 1
2.3 傳統(tǒng)印跡技術(shù)的應(yīng)用 2
2.3.1 在色譜分析方面的應(yīng)用 2
2.3.2 在輔助試劑及模擬酶方面的應(yīng)用 2
2.3.3 在抗體和受體模擬物方面的應(yīng)用 3
2.3.4 在環(huán)境檢測(cè)方面的應(yīng)用 3
2.3.5 在催化領(lǐng)域方面的應(yīng)用 4
3 傳統(tǒng)印跡技術(shù)的現(xiàn)存問題 4
4 無機(jī)印跡技術(shù) 5
4.1 無機(jī)印跡技術(shù)的概念 5
4.2 無機(jī)印跡技術(shù)的原理 5
4.3 無機(jī)印跡技術(shù)的方法 5
4.4 無機(jī)印跡材料的制備 6
4.5 無機(jī)印跡材料在光催化領(lǐng)域的應(yīng)用 7
5 無機(jī)印跡技術(shù)的發(fā)展前景 8
第二章 實(shí)驗(yàn)部分 9
1 引言 9
2 實(shí)驗(yàn)部分 10
2.1 主要儀器和試劑 10
2.2 環(huán)狀Fe3O4的制備 10
2.3 C/Fe3O4的制備 10
2.4 TiO2/C/Fe3O4復(fù)合光催化劑的制備 11
2.5 無機(jī)印跡TiO2/C/Fe3O4復(fù)合光催化劑的制備 11
2.6 吸附實(shí)驗(yàn) 11
2.7 光催化降解實(shí)驗(yàn) 11
2.8 選擇性實(shí)驗(yàn) 10
3 結(jié)果與討論 12
3.1光催化劑的表征 12
3.1.1 掃描電鏡圖譜 12
3.1.2 傅立葉紅外光譜 13
3.1.3 元素分析 13
3.1.4 VSM測(cè)試 14
3.2吸附平衡的考察 14
3.3 不同模板分子的加入量對(duì)光催化劑光降解的影響 15
3.4 不同洗脫時(shí)間對(duì)光催化劑光降解的影響 16
3.5 不同光催化劑對(duì)目標(biāo)分子的光催化活性的考察 17
3.6 選擇性考察 18
3.7 無機(jī)印跡TiO2/C/Fe3O4復(fù)合光催化劑的穩(wěn)定性考察 19
第三章 結(jié)論 21
致謝 22
參考文獻(xiàn) 23


摘要：水污染，已經(jīng)成為現(xiàn)如今社會(huì)的熱門話題，與人類的生活和發(fā)展息息相關(guān)。通過光催化技術(shù)對(duì)環(huán)境中有機(jī)污染物進(jìn)行光催化降解，將其分解為CO2和H2O等低毒或無毒的物質(zhì)，是一種不錯(cuò)的選擇，同時(shí)，光催化降解有機(jī)污染物基本不需要其他能源，能源幾乎全來自于太陽能。但在實(shí)際水環(huán)境中，有時(shí)需要在眾多高濃度、低毒性的污染物中選擇性地降解某種低濃度、高毒性的特定污染物，如果使用普通催化劑，往往達(dá)不到預(yù)期的效果，這就需要在光催化劑的表面進(jìn)行表面分子印跡修飾，通過在光催化劑表面對(duì)特定目標(biāo)污染物進(jìn)行印跡，有效的提高光催化劑的選擇性，然而卻造成了傳統(tǒng)印跡光催化劑降解特定有機(jī)物的光降解效率的降低，因此，無機(jī)印跡技術(shù)進(jìn)入了人們的視野內(nèi)。本文介紹了傳統(tǒng)印跡技術(shù)與無機(jī)印跡技術(shù)的主要區(qū)別，光催化技術(shù)的主要特征，無機(jī)印跡技術(shù)的主要特點(diǎn)，以及無機(jī)印跡材料在光催化領(lǐng)域的研究進(jìn)展和發(fā)展前景。本文以環(huán)狀Fe3O4為載體環(huán)丙沙星（CIP）為模板分子采用溶膠凝膠法制備無機(jī)印跡TiO2/C/Fe3O4，在氙燈的照射下降解在10mg/L環(huán)丙沙星（CIP）溶液，實(shí)驗(yàn)表明制備的無機(jī)印跡TiO2/C/Fe3O4具有高選擇性和高催化活性。


關(guān)鍵詞：傳統(tǒng)印跡技術(shù)、無機(jī)印跡技術(shù)、選擇性光降解、納米磁性材料、環(huán)丙沙星