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數(shù)字單脈沖電源設(shè)計(jì)報(bào)告.doc

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數(shù)字單脈沖電源設(shè)計(jì)報(bào)告,本文共計(jì)48頁(yè),13000余字;內(nèi)有點(diǎn)路圖;摘 要隨著科學(xué)技術(shù)與生產(chǎn)的電子發(fā)展,電鍍工藝已經(jīng)遍布各個(gè)領(lǐng)域,電流通過(guò)鍍槽是電鍍的必要條件,鍍件上的金屬鍍層就是在電流流過(guò)電鍍槽時(shí)引起的電化反應(yīng)而形成的。電鍍中產(chǎn)生電流的裝置就是電鍍電源。本設(shè)計(jì)的電流呈脈沖方式流動(dòng),并可在瞬時(shí)殘生高密度電流,因此,在電鍍...
編號(hào):10-22106大小:945.00K
分類: 論文>計(jì)算機(jī)論文

內(nèi)容介紹

此文檔由會(huì)員 劉瑞 發(fā)布

數(shù)字單脈沖電源設(shè)計(jì)報(bào)告

本文共計(jì)48頁(yè),13000余字;
內(nèi)有點(diǎn)路圖;

摘 要
隨著科學(xué)技術(shù)與生產(chǎn)的電子發(fā)展,電鍍工藝已經(jīng)遍布各個(gè)領(lǐng)域,電流通過(guò)鍍槽是電鍍的必要條件,鍍件上的金屬鍍層就是在電流流過(guò)電鍍槽時(shí)引起的電化反應(yīng)而形成的。電鍍中產(chǎn)生電流的裝置就是電鍍電源。本設(shè)計(jì)的電流呈脈沖方式流動(dòng),并可在瞬時(shí)殘生高密度電流,因此,在電鍍時(shí)能將底層均勻地涂覆到鍍件上,并使之加速,提高了效率;鍍件表面均勻、細(xì)致,使金、銀等貴金屬大為節(jié)約,由此,可以調(diào)節(jié)占空比及頻率的脈沖電鍍電源,尤其開(kāi)關(guān)型脈沖電源,隨之得以應(yīng)用。在制作過(guò)程中運(yùn)用上的單片機(jī)原理知識(shí)和電子電路基礎(chǔ)知識(shí)以及其他電子原理知識(shí),可說(shuō)是百河匯海,內(nèi)容很是復(fù)雜,運(yùn)用上的軟件也有許多如:偉W2000,Protel 99等。也靠這些電腦應(yīng)用軟件來(lái)實(shí)行驗(yàn)證。所以,本設(shè)計(jì)是講述我在制作這個(gè)電源時(shí)的經(jīng)過(guò)和注意事項(xiàng)。



關(guān)鍵詞:脈沖,電鍍 ,電源, 單片機(jī)原理

Abstract
Along with science and technology and production electronic development,The galvanization craft already proliferated each domain,The electric current through plates the trough is the galvanization essential condition,The electrochemical reaction when the electric current which plates on the metal clad is flows electroplating bath tank causes to form. In the galvanization has the electric current installment galvanizes the power source. This design electric current assumes the pulse way to be mobile,And may in the instantaneous remaining years high density

目錄:

1 數(shù)字脈沖電源的電路結(jié)構(gòu)
2 數(shù)字脈沖電源的性能指標(biāo)與設(shè)計(jì)要求
3 雙CPU總體方案
3.1 系統(tǒng)總體方案的思路
3.2 雙CPU的RAM形式
4系統(tǒng)硬件設(shè)計(jì)
4.1 主系統(tǒng)電路原理設(shè)計(jì)
4.2 主系統(tǒng)分析
4.3 主系統(tǒng)顯示電路
4.4 主系統(tǒng)按鍵電路
4.5 基于89C2051的從系統(tǒng)設(shè)計(jì)
4.6 斬波脈沖取驅(qū)動(dòng)輸出電路設(shè)計(jì)
5軟件系統(tǒng)
5.1 主系統(tǒng)軟件
5.2 從系統(tǒng)軟件
總 結(jié)