那年三月的文檔鋪

氟硼吡咯鐵鈷配合物的合成.表征及應用

氟硼吡咯鐵鈷配合物的合成.表征及應用摘要：氟硼二吡咯甲川類熒光化合物（簡稱氟硼吡咯)及其衍生物也成了近年來研究的重要課題之一。氟硼二吡咯甲川類熒光染料是一種性能優(yōu)越的染料，因其良好的光化學穩(wěn)定性、高摩爾消光系數、高熒光量子產率、分子結構易于修飾、對溶劑極性和 pH 的耐受性好等眾多優(yōu)點而被廣泛應..
氟硅聚合物保護材料的制備及性能研究

氟硅聚合物保護材料的制備及性能研究摘要：采用半連續(xù)種子乳液聚合和預乳化法，制備了一系列不同甲基丙烯酸十二氟庚酯（DFMA）含量的含氟硅保護材料（FPA/SiO2）。采用紅外光譜（FT-IR）、透射電子顯微鏡（TEM）、熱重分析（TG）等性能測試裝置對FPA/SiO2保護材料進行表征；采用X射線衍射（XRD）、掃描電子顯微鏡..
新型石墨烯基熒光探針材料的設計.合成及對重金屬離子的檢測

新型石墨烯基熒光探針材料的設計.合成及對重金屬離子的檢測中文摘要摘要：采用Hummers法制備了粒徑均一的氧化石墨烯（GO）。以氧化石墨烯、β-環(huán)糊精（β-CD）和異佛爾酮二異氰酸酯（IPDI）為原料，合成了一種新型β-環(huán)糊精修飾氧化石墨烯的熒光探針復合材料（GO-IPDI-CDs）。采用傅立葉紅外光譜（FT-IR）及掃描..
復合光催化劑agagclcofe2o4的合成及其光催化降解甲基橙的研究

復合光催化劑agagclcofe2o4的合成及其光催化降解甲基橙的研究摘要：本文通過XRD,DRS,TEM等方法對制備的Ag/AgCl/CoFe2O4進行了表征，研究其光學等物理化學性質。為了研究所合成的Ag/AgCl/CoFe2O4的光催化活性，我們把甲基橙作為降解的對象。實驗結果表明：隨著Ag/AgCl含量的不斷升高，光催化活性越來越好。通過不..
基于固相萃取鈰離子印跡聚合物的制備及應用

基于固相萃取鈰離子印跡聚合物的制備及應用摘要：以m-SBA-15為基質材料，通過濕浸漬法制備了磁性SBA-15 (m-SBA-15)，利用表面引發(fā)可逆加成-斷裂鏈轉移(RAFT)聚合制備了新型的磁性鈰離子表面印跡聚合物(Ce(III)-IIP)并研究了其對鈰的選擇性吸附性能。運用紅外光譜、掃描電子顯微鏡、熱重分析儀、透射電子顯微鏡、XR..
含銅納米多孔硅的制備

含銅納米多孔硅的制備摘要：現(xiàn)代研究表明，硅基介孔材料應用前景廣大，廣泛涉及到光、電、磁、生物醫(yī)藥、傳感和納米工程等各個方向，其研究成為一個新興的蓬勃發(fā)展的跨學科研究領域。開發(fā)合成硅基介孔材料的新方法，解決其合成中存在的諸多問題，制備具有新穎特點的硅基介孔復合材料，并探討其相關功能性質是硅基..
雙配位中心席夫堿過渡金屬配合物的合成與晶體結構表征

雙配位中心席夫堿過渡金屬配合物的合成與晶體結構表征摘要: 本論文以席夫堿(二(3-甲氧基水楊醛)縮乙二胺記為H2L)為六齒配體，以過渡金屬離子為自旋載體設計并合成了一些新的席夫堿配合物[CuIIL](1)、[MIICuIIL](ClO4)2 (MII = CuII (2), MII = MnII (3))。用紅外光譜(IR)對配合物進行了表征，用X-射線衍射儀測定了..
三明治型咔咯酞菁稀土配合物的合成和表征

三明治型咔咯酞菁稀土配合物的合成和表征摘要: 咔咯和酞菁均為類卟啉大環(huán)化合物，在分子結構上，它們和卟啉化合物有一定的相似性，具有四吡咯環(huán)結構，但在性質上存在一定的差異。咔咯傾向于和具有較強氧化性的金屬離子結合；酞菁則幾乎能和所有的金屬元素合成配合物。當配位中心是半徑較大的金屬離子如稀土元素、..
α-重氮羰基化合物的合成與表征

α-重氮羰基化合物的合成與表征摘要：重氮化合物在合成領域運用廣泛，能參與合成各類化合物，反應條件溫和，。熱或光化學誘導使重氮化合物失去氮分子形成卡賓化合物，隨后進行多樣的變換，包括X-H（X = C，O，S，N，等）的插入，環(huán)丙烷化，形成內鎓鹽和1,2 -遷移。此外，近來有報道，結合過渡金屬催化的卡賓變換?.