氮氣氣氛退火對Ag/FTO透明導(dǎo)電薄膜光電性能的影響

2.2萬字 36頁 原創(chuàng)作品，已通過查重系統(tǒng)


目錄
摘要 I
第1章 緒論 1
1.1 引言 1
1.1.1 氧化錫材料的結(jié)構(gòu)和性能 2
1.1.2 氧化錫材料的研究進展 3
1.2 透明導(dǎo)電薄膜的制備方法 5
1.2.1磁控濺射鍍膜 6
1.2.2熱噴涂技術(shù) 6
1.2.3化學(xué)氣相沉積法(CVD) 7
1.2.4溶膠-凝膠法 7
1.3透明導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用 7
1.3.1顯示器件中的應(yīng)用 8
1.3.2建筑玻璃領(lǐng)域中的應(yīng)用 8
1.3.3在光電、光熱、電熱及氣敏器件中的應(yīng)用 8
1.3.4其他方面的應(yīng)用 8
1.4 本論文研究的主要內(nèi)容和意義 8
第2章Ag/FTO雙層復(fù)合薄膜的制備 10
2.1 實驗部分 10
2.1.1 實驗材料 10
2.1.2 實驗儀器 10
2.1.3 實驗樣品的預(yù)處理 12
2.2 薄膜的制備 13
2.2.1 鍍膜方法 13
2.2.2 退火處理 13
2.3 結(jié)果分析與討論 14
2.3.1 薄膜的生長模式 14
2.3.2 薄膜生長過程 14
2.3.3退火對表面形貌的影響 15
2.4本章小結(jié) 17
第3章 退火對Ag/FTO雙層薄膜光電性能的影響 18
3.1 樣品性能測試 18
3.1.1 紫外可見分光光度計 18
3.1.2 四探針測試儀 19
3.2 結(jié)果分析與討論 19
3.2.1退火溫度對Ag/FTO透明導(dǎo)電薄膜透過率的影響 19
3.2.2退火溫度對Ag/FTO透明導(dǎo)電薄膜電性能的影響 21
3.2.3退火時間對Ag/FTO透明導(dǎo)電薄膜透過率的影響 21
3.2.4退火時間對Ag/FTO透明導(dǎo)電薄膜電性能的影響 23
3.2.4退火處理后Ag/FTO透明導(dǎo)電薄膜光電性能的綜合評價 23
3.3 本章小結(jié) 24
第4章 結(jié)論與展望 26
4.1 結(jié)論 26
4.2 展望 27
致 謝 28
參考文獻 29



摘要 本文采用磁控濺射法在FTO玻璃襯底上室溫沉積5 nm厚的金屬Ag層，得到Ag/FTO雙層薄膜。并對Ag/FTO雙層薄膜在氮氣氣氛中退火，研究了退火溫度和時間對Ag/FTO雙層薄膜結(jié)構(gòu)、形貌和光電性能的影響。采用掃描電子顯微鏡（SEM）對薄膜表面形貌進行研究，并通過紫外-可見分光光度計和四探針測試儀對薄膜的光電性能進行了分析。還計算了不同薄膜的品質(zhì)因子。
結(jié)果表明：隨著退火溫度火或退火時間的升高，晶粒尺寸不斷增大，晶粒排列緊密，薄膜的表面變得均勻平整，結(jié)晶度逐漸完善。對不同薄膜樣品的綜合光電性能進行評價發(fā)現(xiàn)，經(jīng)400 ℃退火20 min后的Ag/FTO 雙層透明導(dǎo)電薄膜的綜合光電性能最好，其品質(zhì)因子為10.97×10-3 Ω-1 。


關(guān)鍵詞：FTO薄膜 磁控濺射 熱退火 光電性能