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高介電ccto薄膜制備技術(shù)研究.doc

  
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高介電ccto薄膜制備技術(shù)研究,高介電ccto薄膜制備技術(shù)研究research of high dielectric ccto thin film preparation technology1.2萬(wàn)字37頁(yè) 原創(chuàng)作品,已通過(guò)查重系統(tǒng)摘要 高介電ccto材料具有良好的性能和廣泛的應(yīng)用價(jià)值。本文詳細(xì)論述了ccto材料的結(jié)構(gòu)、制備方法、改性機(jī)理及其他性能...
編號(hào):99-1443167大小:3.19M
分類: 論文>電氣自動(dòng)化/電力論文

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高介電CCTO薄膜制備技術(shù)研究
Research of high dielectric CCTO thin film preparation technology

1.2萬(wàn)字 37頁(yè) 原創(chuàng)作品,已通過(guò)查重系統(tǒng)


摘要 高介電CCTO材料具有良好的性能和廣泛的應(yīng)用價(jià)值。本文詳細(xì)論述了CCTO材料的結(jié)構(gòu)、制備方法、改性機(jī)理及其他性能。本課題通過(guò)溶膠-凝膠法制備Al、P、Si元素?fù)诫sCCTO溶液,經(jīng)陳化制備溶膠,通過(guò)浸漬提拉法獲得薄膜,并將薄膜于900℃退火2h,得到均勻的CCTO薄膜。通過(guò)X射線衍射檢測(cè)其物相組成,利用原子力顯微鏡觀察其微觀形貌,其介電性能和壓敏性能分別用Agilent 4294A阻抗分析儀和CJ1001壓敏測(cè)試儀進(jìn)行測(cè)試。由比較普遍的觀點(diǎn),CCTO材料的巨介電性能是由于其內(nèi)部阻擋層電容(IBLC)產(chǎn)生。本課題旨在分析研究不同摻雜對(duì)CCTO薄膜性能的影響。通過(guò)Al、P、Si元素的摻雜,可以看到介電常數(shù)和介質(zhì)損耗都產(chǎn)生了提高。通過(guò)比較三組實(shí)驗(yàn),在摻雜量為0.2的時(shí)候,介電性能發(fā)生顯著提高,同時(shí)其具有良好的E-J非線性特征。Al元素的p型摻雜和P元素的n型摻雜對(duì)CCTO材料性能的影響有待進(jìn)一步研究。


關(guān)鍵詞: CCTO;高介電材料;溶膠-凝膠法